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高壓產生特征與連續(xù)X射線譜
發(fā)布時間：2019-11-15 09:48:15 點擊：7725
連續(xù)X射線譜
X射線光管利用由高壓產生的X射線束作為激發(fā)源。高能入射粒子或電子與靶元素中束縛力較弱的電子發(fā)生隨機碰撞后，電子減速，功能損失，損失的能量將以光子發(fā)射的形式出現(xiàn)，從而產生連續(xù)的X射線譜，稱為韌致輻射。
XRF是一項非破壞性的元素定性和定量分析的技術，其原理是根據(jù)被入射X光提升到激發(fā)態(tài)的樣品，在回復到基態(tài)時，所放射的X光熒光，具有因元素種類和含量不同而有不同的波長X光射線的特性。當X光照射樣品時，有兩種主要的現(xiàn)象發(fā)生，即：散射現(xiàn)象（Scattering）和光電吸收（Photoelectric Absorption）。
高壓產生特征與連續(xù)X射線譜
特征X射線譜
產生特征X射線所需要的最小能量等于相應殼層電子的結合能，也稱為吸收邊能量，只有當光管超出臨界激發(fā)電壓的狀態(tài)下，靶的特征線才會出現(xiàn)。
電壓太高時，電子穿透深度過大，靶材的自吸收將會變得十分顯著。故而只有當光管電壓等于臨界激發(fā)電壓的3-5倍時，可得到最佳的特征譜線強度。這對于選擇靶線激發(fā)輕元素分析具有指導意義。
X射線譜由連續(xù)譜和標識譜兩部分組成，標識譜重疊在連續(xù)譜背景上，連續(xù)譜是由于高速電子受靶極阻擋而產生的軔致輻射，其短波極限λ0由加速電壓V決定：λ 0 = hc /( ev )為普朗克常數(shù)，e為電子電量，c為真空中的光速。標識譜是由一系列線狀譜組成，它們是因靶元素內層電子的躍遷而產生，每種元素各有一套特定的標識譜，反映了原子殼層結構 的特征。同步輻射源可產生高強度的連續(xù)譜X射線，現(xiàn)已成為重要的X射線源。
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